Les reixes hologràfiques són elements òptics difractius basats en el principi de superposició òptica coherent, utilitzant la interferència de dos raigs làser per formar serrells. Es poden fabricar en materials fotosensibles mitjançant la tecnologia d'exposició de camp d'interferència d'escaneig. Aquesta tecnologia consisteix a recobrir un material fotosensible sobre un substrat de vidre òptic, seguit d'exposició a interferències làser i gravat per crear reixes de transmissió o reflexió. La densitat màxima de la ranura arriba a 4300 línies/mm i l'àrea de fabricació màxima és de 1500 mm × 420 mm. En comparació amb les reixetes traçades tradicionals, ofereixen avantatges com ara no línies fantasma, poca llum dispersa (10⁻⁴) i alta resolució (assolint el valor teòric del 80% ~ 100%). L'eficiència de difracció es pot augmentar fins al 95% mitjançant la tecnologia de gravat iònic.
Les reixetes hologràfiques s'utilitzen àmpliament en instruments d'anàlisi espectroscòpica, telescopis astronòmics, làsers, comunicacions òptiques i fusió de confinament inercial, amb aplicacions típiques com ara el satèl·lit "Xihe", sistemes AR-HUD i ulleres AR per a camps especialitzats.
